大学時代に数値シミュレーション技術を修得し、１９８４年４月にキヤノン株式会社に入社、それ以来３０年以上に渡って解析技術をベースに製品開発に取り組んできました。具体的には以下のようなものがあります（従事期間の長いもの順）。
(1) 電子写真プロセス解析：帯電、現像、転写、定着、クリーニングプロセスのシミュレータ開発。各プロセスの物理現象メカニズム明確化、画像不具合原因の理論解明。（延べ約14年間）
(2) 電磁デバイス設計解析：カメラ用/半導体露光装置電磁アクチュエータ、磁気記録デバイス設計シミュレーションとシミュレータ開発。（延べ約14年間）
(3) 汎用電磁界シミュレータ開発：大規模有限要素法プリポストプログラムの開発。（7年）
